R05200 tantalum plokštės pranašumai
R05200 yra gryna tantalo medžiaga (UNS R05200), kuri atitinka ASTM B708 standartą ir siūlo šiuos pagrindinius pranašumus:
1. Puikus atsparumas korozijai
Jis pasižymi puikiais aukštos temperatūros ir stiprių rūgščių (tokių kaip druskos rūgštis, sieros rūgštis, azoto rūgštis) ir chlorido aplinka, o jo atsparumas korozijai viršija titano ir Hastelloy . atsparumą korozijai, viršija titano ir Hastelloy ..
Atsparus „Aqua Regia“ korozijai, tinkančiai ekstremalioms cheminėms aplinkoms (E . g . koncentruotos sieros rūgšties garintuvai) .
2. biologinis suderinamumas
ISO 10993 sertifikuoti, netoksiški, nealerginiai, plačiai naudojami ortopediniuose implantuose (e . g . kaulų nagai, kaukolės taisymo plokštelės) .
3. aukštos temperatūros stabilumas
Esant 2996 laipsnio lydymosi temperatūrai, jis gali būti naudojamas ilgą laiką 600 laipsnių ir gali atlaikyti 2000 laipsnio plazmos aplinką (e . g . raketinių purkštukų gleivinė) trumpam laikui
4. puikios fizinės savybės
Didelis šilumos laidumas (57 . 5 W/m · k) ir elektrinis laidumas (varža 13,5 μΩ · cm) didelės galios kondensatoriams.
Mažas šiluminio išsiplėtimo koeficientas (6 . 5 × 10⁻⁶/k) užtikrina matmenų stabilumą aukštos temperatūros aplinkoje.
5. PRANEŠIMO PRANEŠIMAS
Iki 25% pailgėjimas po šalčio valcavimo įgalina kompleksinį štampą (e . g .
R05200 tantalum plokštės apdorojimo technologija
1. šaltas formavimas
Riedėjimas: daugialypis šaltas valcavimas (deformacija mažesnė arba lygi 30% vienam leidimui), tarpinis atkaitinimas (1000-1200 laipsnis /vakuumas) .
Štampas: štampo tarpas kontroliuojamas ties 5-8% plokštelės storio, kad būtų išvengta briaunų įtrūkimo .
2. suvirinimas
Elektronų pluošto suvirinimas: vakuuminė aplinka (mažesnė arba lygi 1 × 10⁻³ PA), galios tankis 3 × 10⁴ w/cm², kraštinių santykis iki 20: {1.
TIG suvirinimas: argono grynumas didesnis arba lygus 99 . 999%, galinėje pusėje reikalinga argono apsauga, o suvirinimo laidams naudojami R05200 suderinami komponentai.
3. šilumos apdorojimas
Perkristalizacijos atkaitinimas: 1200 laipsnio × 1H (vakuumas mažesnis arba lygus 5 × 10⁻³ Pa), grūdų dydžio kontrolė ASTM laipsnis 6-8.
4. apdirbimas
Įrankiai: deimantinis karbidas su grėblio kampu 10-15 laipsnio ir galinio kampo 6-8 laipsnis .
Parametrai: Linijinis greitis mažesnis arba lygus 30 m/min., Tiekimas 0.05-0.1 mm/r, emulsijos aušinimas (pH neutralus) .
R05200 TANTALUM Plokštės Tipiniai taikymo laukai ir atvejai
| Taikymo laukai |
Konkreti programa |
Našumo reikalavimai |
Atvejo specifikacijos
|
|
Cheminė įranga |
Reaktoriaus pamušalas, kondensatoriaus vamzdis |
160 laipsnių koncentruota kultifo rūgšties atsparumas korozijai |
THK 3MMX2000 × 1000 mm |
|
Elektronikos pramonė |
Aukštas specifinis talpos kondensatoriaus anodas |
Paviršiaus šiurkštumas Ra yra mažesnis arba lygus 0,2 μm |
0,1 mm tantalum folija, talpa 100, 000 μf/g |
|
Medicininė implantacija |
Kaukolės taisymo plokštelė, kraujagyslių stentas |
ASTM F560 |
THK 1,5 mm, 30% poringumo poringumo struktūra |
|
Aviacijos ir kosmoso pramonė |
Raketos purkštuko gerklės pamušalas, palydovinės šiluminės valdymo komponentai |
3000 laipsnių momentinis atsparumas aukštai temperatūrai |
C103 dangos kompozicinė struktūra, THK 5 mm |
|
Vakuuminė įranga |
Dulkinamasis taikinys, vieno krištolo krosnies šildytuvas |
Grynumas didesnis arba lygus 99,95%, grūdų dydis mažesnis arba lygus 50 μm |
Φ300 mm taikinys, 16,6 g/cm³ |
Populiarus Žymos: R05200 „Tantalum“ lapas, Kinija R05200 „Tantalum“ lakštų gamintojai, tiekėjai, gamykla
